EXFO OSA20 - 光譜分析儀

OSA20

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產品說明

產品介紹

基於繞射光柵(衍射光柵)的測試儀，工作範圍為1250 nm至1700 nm。提供快速、精確、高動態範圍的掃描。融合了觸控式螢幕與多點手勢觸控。
EXFO OSA20是唯一結合了最新性能，易用性，自動化，頂級分析工具和快速測量功能的基於光柵的光譜分析儀。這不僅使它成為下一代光電信網路研發的理想選擇，而且還非常適合製造高端產品，例如收發器或ROADM。

產品優勢

EXFO OSA20的單色器是建立在EXFO的著名的濾波技術。它的窄頻寬(20 pm)在整個光譜操作範圍(1250 - 1700納米)保持不變。單色器因其極銳利的濾光邊緣和低雜散光而脫穎而出，非常適合用於WDM通道測試的光信噪比(OSNR)測量。EXFO OSA20具有一流的±2 pm的波長重複性和±10 pm的精度，指定超過1500-1640 nm，並自帶內置波長校準源。

快速的
EXFO OSA20是同類產品中速度最快的光譜分析儀，最大掃描速度為2000 nm/s，所有掃描的固定採樣解析度為2 pm。這意味著每次測量都是在最高的解析度和最高的精度。掃描速度僅由靈敏度級別的選擇決定:-55 dBm在2000 nm/s到-90 dBm，平均超過380次掃描，最高0.5 nm/s。掃描速率約為3掃描/秒，覆蓋C+L波段(在-60 dBm靈敏度)，EXFO OSA20是快速和精確光學對準的理想工具，隨後是高解析度表徵。

易於使用的
EXFO OSA20將光譜測試帶入21世紀
為了確保得到最好的測量結果，EXFO OSA20還配備了一個光學連接器板，可以很容易地拆卸，以檢查和清潔光纖連接器。

有效的分析特性
EXFO OSA20內置了面向應用的分析功能，適合不同類型的頻譜或採集技術。
分波(波分)複用:分波(波分)複用，OSNR工具相容400G+頻譜。
RLT:迴圈環路傳輸模式是WDM的一種特殊版本，專門設計用於長距離傳輸類比，具有優化的信號採集演算法。
SML:用於分佈回饋布拉格雷射(鐳射)二極體、可調諧雷射(鐳射)器或收發器的側模抑制比(邊模抑制比)(SMSR)、中心波長和光功率的單模雷射(鐳射)特性。
OFA:用於半導體、拉曼或光纖放大器的增益和雜訊特性的光纖放大器。
光學濾波器、隔離器或光纖的被動元件(無源元件)測試特性。這種模式也可用於光學器件的快速對準。
超級發光或邊緣發光LED的寬頻光源特性。
MML:多縱向模型雷射器的多模雷射(鐳射)特性，如法布立－培若雷射(法布裡-珀羅鐳射)二極體。
OSA:頻譜分析儀通用操作模式，包含OSA20上可用的大多數分析工具，用於任何不適合上述模式之一的信號。

主要特點